Germany – Scanning electron microscopes – Strukturierungs- und Beobachtungssystem auf Basis einer Plasma-Ionensäule und einer Elektronensäule zur Beobachtung, sowie kontaminationsarmen Präparation großer Probenbereiche mit hohen Abtragsraten

Lieferung, Aufbau und Inbetriebnahme einer flexibel einsetzbaren modernen Plasma-FIB (PFIB), wel-che die Möglichkeit der kontaminationsarmen Präparation von Strukturen über größere Probenbe-reiche mit hoher Abtragsrate besitzt. Diese hohen Abtragsraten sind für die effiziente Herstellung und Charakterisierung von verschiedenen z.T. integrierten Strukturen in unterschiedlichen Größens-kalen von Bedeutung. Mit der geplanten Anlage sollen großflächige Strukturen durch gezielte Feinstrukturierung in Mikro- und Nanometerdimension (sowohl lateral als auch in die Tiefe) hergestellt werden. Unter anderem werden damit sowohl die grundlagenbasierte Forschung im Bereich der quanten-photonisch inte-grierten Systeme (Q-PICs) vorangetrieben als auch durch die Kombination der verschiedenen tech-nologischen Konzepte mikroelektronische Systeme direkt mit Q-PICs verknüpft. Gleichzeitig soll das Gerät die Möglichkeit der Lamellenpräparation für die Transmissionselektronen-mikroskopie (TEM) unterstützen und dabei die dafür nötige Präzision auch für die Oberflächenstruk-turierung größerer Dimensionen an den Grenzen der physikalisch-technischen Realisierbarkeit be-reitstellen. Zusätzlich kann die Anlage zur Charakterisierung von Proben mit Hilfe der elektronenstrahlbasierten Abbildung verwendet werden, welche sowohl in situ (während der Strukturierung) als auch vor/nach der Strukturierung möglich ist. Dies erfolgt in der gesamten Technologiekette.